[发明专利]图案形成方法及滤色片的制造方法以及滤色片及液晶显示装置无效
| 申请号： | 200580021957.3 | 申请日： | 2005-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1977221A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 岩崎政幸;石川弘美;下山裕司;儿玉知启 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案形成方法，可以高精细地形成微细图案，可以提高图案形成的生产性，并且可以用高析像度在感光性组合物中形成规定图案。为此，包括：使用含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层的感光层形成工序；在至少利用具有n个(其中，n表示2以上的自然数)接受来自光照射机构的光并射出的描画部的光调制机构，将来自所述光照射机构的光调制后，利用穿过排列了具有可以修正由所述描画部的出射面的变形造成的像差的非球面的微透镜的微透镜阵列的光，或利用穿过排列了具有不使来自所述描画部的周边部的光射入的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列的光，在贫氧气氛下，将利用所述感光层形成工序形成的感光层曝光的曝光工序；将利用该曝光工序曝光了的感光层显影的显影工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 滤色片 制造 以及 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，其特征是，包括：感光层形成工序，使用至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物，在基材的表面至少形成感光层；曝光工序，在利用具有n个(其中，n表示2以上的自然数)接受来自光照射机构的光并射出的描画部的光调制机构，将来自所述光照射机构的光调制后，利用穿过微透镜阵列的光，在贫氧气氛下，将所述感光层曝光，其中所述微透镜阵列中排列了具有可以修正由所述描画部的出射面的变形造成的像差的非球面的微透镜；显影工序，将利用该曝光工序曝光了的感光层显影。
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