[发明专利]用于制造具有整体对准部件的光波导组件的方法无效

专利信息
申请号: 200580021993.X 申请日: 2005-04-28
公开(公告)号: CN1977198A 公开(公告)日: 2007-06-06
发明(设计)人: 特里·L·史密斯;张俊颖;鲁泰什·D·帕里克;杰里米·K·拉尔森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B6/30 分类号: G02B6/30;G02B6/42;G02B6/136
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 黄启行;穆德骏
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种光波导组件(20)具有整体对准部件(22)。通过在形成对准部件之前在基板(26)上制造波导、去除波导的部分以暴露基板和在基板中形成对准部件,形成波导部件。具有整体对准部件(22)的平面型波导组件(20)通过利用蚀刻停止层(28)涂覆基板(26)来制造。在蚀刻停止层(28)中形成对准部件图案(30)。对准部件图案(30)使用光刻和蚀刻处理来制造。在蚀刻停止层(28)中制造对准部件图案(30)之后,波导(32)生长在基板(26)和具有对准部件图案(30)的蚀刻停止层(28)上。接下来波导(32)在其中预先制造对准部件图案(30)的区域中蚀刻以暴露图案(30)。执行另一蚀刻以使用预先制造的对准部件图案(30)来创建精确对准部件(22)。对准部件(22)为V形槽、U形形状、梯形或矩形槽。
搜索关键词: 用于 制造 具有 整体 对准 部件 波导 组件 方法
【主权项】:
1.一种形成用于光学器件的具有整体对准部件的波导的方法,该方法包括:在基板上制造波导;去除该波导的部分以暴露基板;以及在暴露的基板中形成光学器件对准部件。
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