[发明专利]磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现设备无效
| 申请号： | 200580022116.4 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1981327A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 清水谦治 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/73 | 分类号： | G11B5/73;G11B5/64;G11B5/65;G11B5/667;G11B5/72 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质，包括在非磁性基底上层叠的至少一层软衬层、一层垂直磁记录膜和一层保护膜。所述非磁性基底为一个直径小于等于48mm的硅圆片。一种用于制造所述磁记录介质的方法包括在形成保护膜时在所述硅基底上施加一个偏压。可以用所述方法制造磁记录介质。可以用所述磁记录介质和一个用于在所述磁记录介质上记录和再现信息的磁头来制造一种磁记录和再现设备。所述磁头是一个磁单极磁头。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 以及 再现 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，包含非磁性基底，在该非磁性基底上至少层叠软磁性衬层、垂直磁记录膜和保护膜，其中，所述非磁性基底为直径小于等于48mm的硅圆片。
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