[发明专利]曝光装置有效

专利信息
申请号: 200580022190.6 申请日: 2005-06-27
公开(公告)号: CN1981244A 公开(公告)日: 2007-06-13
发明(设计)人: 伊藤三好 申请(专利权)人: 集成方案株式会社
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 上海市华诚律师事务所 代理人: 黄依文
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种曝光装置,其包括:从光源(7)对滤色片基板(6)照射曝光用光的曝光光学系统(2);与该曝光光学系统(2)相对配置的、载置并以一定速度输送所述滤色片基板(6)的输送设备(4),将夹装在所述曝光光学系统(2)的光路上的遮光板(10)的开口部(10a)的像曝光在所述滤色片基板(6)上,其包括:摄像设备(3),其在所述输送设备(4)的移动方向以所述曝光光学系统(2)的曝光位置的跟前侧为摄像位置,对所述滤色片基板(6)上所预先形成的黑底(11)进行摄像;控制设备(5),其检测出经所述摄像设备(3)摄像的黑底(11)所预先设定的基准位置,以该基准位置为基准,对所述曝光光学系统(2)的曝光用光的照射时间进行控制,将所述遮光板(10)的开口部(10a)的像曝光在所述滤色片基板(6)的规定位置上。由此,提供一种采用小的遮光板高效地在宽阔的曝光区域进行曝光的曝光装置。
搜索关键词: 曝光 装置
【主权项】:
1.一种曝光装置,其包括:从光源对被曝光体照射曝光用光的曝光光学系统;与该曝光光学系统相对配置的、载置并以一定速度输送所述被曝光体的输送设备,所述曝光装置将夹装在所述曝光光学系统的光路上的遮光板的开口部的像曝光在所述被曝光体上,其特征在于,包括:摄像设备,其以在所述输送设备的移动方向上的所述曝光光学系统的曝光位置的跟前侧为摄像位置,对所述被曝光体上所预先形成的基准图案进行摄像;控制设备,其检测出经所述摄像设备摄取的所述基准图案所预先设定的基准位置,以该基准位置为基准,对所述曝光光学系统的曝光用光的照射时间进行控制,将所述遮光板的开口部的像曝光在所述被曝光体的规定位置上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于集成方案株式会社,未经集成方案株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580022190.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top