[发明专利]浸入式光刻系统无效
| 申请号： | 200580022586.0 | 申请日： | 2005-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101014905A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | R·B·格兰特;P·A·斯托克曼 | 申请（专利权）人： | 英国氧气集团有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 英国英格*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 在浸入式光刻中，浸入流体(30)位于晶片(28)和透镜(24)之间，所述透镜用于穿过浸入流体(30)将图像投影在晶片(28)上。为了抑制来自浸入流体的蒸发，在浸入流体周围输送被浸入流体成分饱和的净化流体。 | ||
| 搜索关键词： | 浸入 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种浸入式光刻系统，包括：晶片台；透镜，用于将图像投影至位于所述晶片台上的晶片上；浸入流体提供装置，用于提供位于透镜和晶片之间的浸入流体；和净化流体输送装置，用于在提供的浸入流体周围输送被浸入流体成分饱和的净化流体。
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