[发明专利]具有高填料含量的稳定的通过阳离子途径可交联/可聚合的牙科组合物无效
| 申请号： | 200580022842.6 | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1980969A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | M·德吕埃德;Y·吉罗;J－M·弗朗塞斯 | 申请（专利权）人： | 罗狄亚化学公司 |
| 主分类号： | C08G18/58 | 分类号： | C08G18/58;C08G59/30;A61K6/093 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张力更 |
| 地址： | 法国布洛*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及高度填充的阳离子牙科组合物，该组合物包含：至少一种通过阳离子途径反应性的化合物(A)；至少一种牙科用填料(B)；任选地，至少一种分散剂(C)，其包含至少一种有机聚合物或共聚物；至少一种阳离子光引发剂；和任选地，至少一种光敏剂(E)，所述组合物的特征在于至少一种牙科用填料(B)经用下列物质处理：至少一种有机硅偶联剂(F)和至少一种化合物(G)，所述有机硅偶联剂(F)包含至少一个直接连在硅原子上的活性官能团(rfA)，其在活化后与牙科用填料形成化学键，该偶联剂还包含至少一个不直接连在硅原子上的活性官能团(rfB)，其在活化后与化合物(G)的活性官能团(rfC)形成化学键。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 填料 含量 稳定 通过 阳离子 途径 交联 聚合 牙科 组合 | ||
【主权项】：
1.一种牙科组合物，该组合物包含：(1)至少一种通过阳离子途径反应性的化合物(A)；(2)至少一种牙科用填料(B)；(3)任选地，至少一种分散剂(C)，其包含至少一种有机聚合物或共聚物；(4)至少一种阳离子光引发剂(D)；(5)和任选地，至少一种光敏剂(E)，所述组合物的特征在于至少一种牙科用填料(B)经用下列物质处理：a)至少一种有机硅偶联剂(F)和b)至少一种化合物(G)，所述有机硅偶联剂(F)包含至少一个与该牙科用填料反应的直接连在硅原子上的活性官能团(rfA)以及至少一个与化合物(G)的活性官能团(rfC)反应的不直接连在硅原子上的活性官能团(rfB)。
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