[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及元件制造方法

摘要

曝光装置(EX)具有投影光学系统(PL)。投影光学系统(PL)，具有最接近其像面的第1光学元件(LS1)、及次于第1光学元件(LS1)接近像面的第2光学元件(LS2)。第1光学元件(LS1)，具有：配置成与基板(P)表面对向的下面(T1)、及配置成与第2光学元件(LS2)对向的上面(T2)。以第2液体(LQ2)充满于第1光学元件(LS1)的上面(T2)与第2光学元件(LS2)之间，以在上面(T2)中、在包含曝光用光(EL)通过的区域(AR’)的区域形成液浸区域，通过第1光学元件(LS1)的下面(T1)侧的第1液体(LQ1)、与上面(T2)侧的第2液体(LQ2)将曝光用光(EL)照射于基板(P)上，由此使基板(P)曝光。如此能防止因光学元件污染使曝光精度劣化，并抑制液浸区域的巨大化。

主权项

1.一种曝光装置，是通过液体将曝光用光照射于基板上来使基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于第1元件接近像面的第2元件；第1元件，具有配置成与基板表面对向、使曝光用光通过的第1面；以及配置成与第2元件对向、使曝光用光通过的第2面；第1元件及第2元件，相对投影光学系统的光轴被支撑成大致静止的状态，将液体充满于第1元件的第2面与第2元件之间，以在第1元件的第2面中，仅使包含曝光用光通过的区域的部分区域成为液浸区域，通过第1元件的第1面侧的第1液体、与第2面侧的第2液体将曝光用光照射于基板上，以使基板曝光。