[发明专利]薄膜材料及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200580023975.5 申请日: 2005-06-14
公开(公告)号: CN1997779A 公开(公告)日: 2007-07-11
发明(设计)人: 母仓修司;大松一也 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社;财团法人国际超电导产业技术研究中心
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C23C14/08;H01B12/06;H01B13/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴;张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明披露了薄膜材料和制造该薄膜材料的方法,用该方法能够提高形成于基板上的膜的性质。超导线材1包括基板2、形成于基板上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(中间层3)、和形成于中间薄膜层(中间层3)上的单晶薄膜层(超导层4)。在中间薄膜层(中间层3)的至少一层中与单晶薄膜层(超导层4)相对的上表面(被研磨面10)是研磨过的。
搜索关键词: 薄膜 材料 及其 制造 方法
【主权项】:
1、薄膜材料(1),包括:基板(2);形成于所述基板(2)上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(3);和形成于所述中间薄膜层(3)上的单晶薄膜层(4),其中在所述中间薄膜层(3)的至少一层中与所述单晶薄膜层(4)相对的上表面(10)是研磨过的。
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