[发明专利]用于限制充电效应的离子注入机电源有效

专利信息
申请号: 200580024703.7 申请日: 2005-06-14
公开(公告)号: CN1989588A 公开(公告)日: 2007-06-27
发明(设计)人: 弗兰克·托瑞格罗萨;吉勒斯·马修 申请(专利权)人: 离子射线服务公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李春晖
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及离子注入机的电源ALT,包括:设置于衬底支承台PPS和大地E之间的电发生器SOU,以及同样设置于衬底支承台和大地之间的分流支路中的电容器CDS。所述电容器CDS的电容低于5纳法。本发明的目的还在于提供一种包括所述电源的离子注入机。
搜索关键词: 用于 限制 充电 效应 离子 注入 机电
【主权项】:
1.离子注入机IMP的电源ALT、ALTi、ALTj,包括设置于衬底支承台PPS和大地E之间的电发生器SOU,以及同样设置于所述衬底支承台PPS和大地E之间的分流支路中的电容器CDS,其特征在于,所述电容器CDS的电容小于5纳法。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于离子射线服务公司,未经离子射线服务公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580024703.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top