[发明专利]振荡器无效
申请号: | 200580025371.4 | 申请日: | 2005-07-13 |
公开(公告)号: | CN1989610A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 井上彰;片山幸治;高木刚 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L21/8238 | 分类号: | H01L21/8238;H03B5/12;H01L27/092;H03K3/354 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在本发明的振荡器中,作为放大器件而含有的场效应晶体管(12)、(13)是具有在半导体基板上所形成的基极区域、在所述基极区域上所形成的与所述基极区域不同的导电型源极区域以及漏极区域、在所述源极区域以及漏极区域之间所形成的埋沟层、和在所述埋沟层的上方通过删极绝缘膜而形成的删极电极的埋沟型晶体管,并且与所述基极区域电连接的基极端子(b12)、(b13)与用来供给电源电位(Vdd)的电源配线连接。 | ||
搜索关键词: | 振荡器 | ||
【主权项】:
1.一种振荡器,其特征在于,包括:第一电源配线和在与该第一电源配之间被施加电源电压的第二电源配线、共振电路、各自的源极区域之间被电连接并且各自的漏极区域与所述共振电路电连接同时相互以差动对连接的一对第一以及第二场效应晶体管、和在所述第一以及第二场效应晶体管的各个源极区域之间被电连接的部分与所述第二电源配线之间连接的电流源,其中,所述第一以及第二场效应晶体管是分别包括在半导体基板上形成的第一导电型的基极区域、在所述基极区域上形成的第二导电型的所述源极区域以及漏极区域、在所述源极区域以及漏极区域之间形成的埋沟层、和在所述埋沟层的上方通过栅极绝缘膜而形成的栅极电极的埋沟型晶体管,并且设置有与所述基极区域电连接的基极端子,为了使所述第二电源配线的电位和被供给至所述基极端子的基极电位之间的电压与由所述电流源引起的电压降之差的电压正向施加在所述第一以及第二场效应晶体管各自的所述源极区域和所述基极区域间的半导体结上,并且变成所述半导体结的扩散电位差以下,而在所述基极端子上设置供给所述基极电位的基极电位供给电路。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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