[发明专利]制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法及通过该方法制得的用于磁记录介质的玻璃基底无效
| 申请号： | 200580025834.7 | 申请日： | 2005-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN1993298A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;G11B5/73;C03C15/00;G11B5/84;C03C19/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用0.02－0.3％的氢氟酸水溶液洗涤该基底；还涉及一种通过该方法制造的用于磁记录介质的玻璃基底。制造了一种用于磁记录介质的抛光玻璃基底，由此在抛光该玻璃基底后的洗涤过程中可以使基底的基底表面缺陷和全波纹的出现最小化，并由此可以在后续的纹理化步骤中以均匀的方式形成纹理，而不会在基底间造成差异。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 记录 介质 玻璃 基底 方法 通过 法制 | ||
【主权项】：
1.制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用0.02-0.3％的氢氟酸水溶液洗涤该基底。
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