[发明专利]用于磁记录介质的抛光托架和硅基底的制造方法以及用于磁记录介质的硅基底无效
| 申请号： | 200580026013.5 | 申请日： | 2005-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1993206A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 会田克昭 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一个目的是提供一种抛光托架，该抛光托架在抛光易碎且具有高裂解强度的单晶硅基底时，可以防止基底边缘面发生擦伤，并防止边缘面产生碎片；并且，当其在后续工序中存储在盒子中时，很难由于摩擦盒子而产生碎片，并防止基底破裂。因此，与硅基底接触的抛光托架中的基底保持孔的内周面部分由硬度小于硅基底的衬垫形成。可以使用从例如绒面革、聚酰胺树脂、聚丙烯树脂或环氧树脂中选择的任何一种形成衬垫。特别地，用环氧树脂是理想的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 记录 介质 抛光 托架 基底 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1、一种抛光托架，具有保持用于磁记录介质的硅基底的基底保持孔，其中，所述基底保持孔与所述硅基底接触的内周面部分用硬度小于硅基底的衬垫形成。
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