[发明专利]高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 200580026129.9 | 申请日： | 2005-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1993394A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 松丸省吾;竹下优;岩井武;羽田英夫 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/38 | 分类号： | C08F220/38;C08F220/22;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子化合物 发生 正型抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高分子化合物，其特征在于，包含：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2-1)表示的结构单元(a2)、和从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)；【化1】![]()
在式中，R是氢原子或者低级烷基，A是2价的有机基团，B是1价的有机基团，X是硫原子或者碘原子，n是1或者2，Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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