[发明专利]用于等离子体增强化学气相沉积应用的加热气体盒无效
| 申请号： | 200580026251.6 | 申请日： | 2005-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN1993495A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 索沃·森;伊娜·斯姆伦;托马斯·诺瓦克;南希·凡格;布雷恩·霍珀;安德则耶·卡祖巴;埃勒·加可 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于在处理区域中的衬底上进行化学气相沉积的处理室的方法和装置，所述处理室包括气体盒和面板，所述气体盒具有包括气体入口通道的加热盖，所述面板连接到所述加热盖并设置成将气体从被加热的气体盒导向衬底处理区域。另外，还提供了一种向化学气相沉积室供给热量的方法，包括向气体盒的盖供给热量，并用从盖传递的热量对与气体盒相连的面板进行加热。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 增强 化学 沉积 应用 加热 气体 | ||
【主权项】：
1.一种用于在处理区域中的衬底上进行化学气相沉积的处理室，包括：气体盒，具有加热盖，所述加热盖包括气体入口通道；以及面板，连接到所述加热盖并设置成从被加热的所述气体盒向衬底处理区域引导气体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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