[发明专利]粒子射线照射方法及该方法中使用的粒子射线照射装置有效
| 申请号： | 200580026406.6 | 申请日： | 2005-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101031336A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | 原田久 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G21K3/00;G21K5/00;G21K5/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在进行深度方向的照射区扩大及横向的照射区扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中，使照射目标的各照射层的各自的照射剂量实质上一定，力图简化控制，同时力图减少伴随照射目标的移位而产生的照射误差。深度方向的照射区扩大采用使前述粒子射线束在照射方向互相不同的射程的多个照射层重叠的主动照射区扩大，另外，配置具有沿照射目标的深度方向的最深部的形状的团块，使其横切粒子射线束，再有，对于从多个照射层中选择的至少一个照射层，再照射1次以上粒子射线束。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 照射 方法 使用 装置 | ||
【主权项】：
1.一种粒子射线照射方法，其特征在于，是同时采用在粒子射线束的照射方向的沿照射方向的深度方向沿方向，扩大所述粒子射线束的照射区的深度方向的照射区扩大；以及沿与所述粒子射线束的照射方向垂直的横向，扩大所述粒子射线束的照射区的横向的照射区扩大；将所述粒子射线束对照射目标进行照射的粒子射线照射方法，所述深度方向的照射区扩大，采用使所述粒子射线束在照射方向互相不同的射程的多个照射层重叠的主动的照射区扩大，另外，配置具有沿所述照射目标的深度方向的最深部的形状的团块，使其横切所述粒子射线束，再有，对于从所述多个照射层中选择的至少一个照射层，再照射1次以上所述粒子射线束。
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