[发明专利]液量监视装置、搭载液量监视装置的半导体制造装置、以及液体材料和液量的监视方法无效

专利信息
申请号: 200580026440.3 申请日: 2005-10-18
公开(公告)号: CN1993805A 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 安室章;饭塚八城 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205;C23C16/448;G01F23/28
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 半导体制造装置包括:包含收容液体材料的容器(Xb、Ab、Bb、Cb),从该容器供给上述液体材料的液体材料供给部;使由上述液体材料供给部供给的上述液体材料气化而生成气体的液体气化部;使用由上述液体气化部供给的上述气体进行成膜处理的处理部;对上述处理部进行排气的排气部;以及配置在上述容器的底部,利用声波检测上述液体材料的液位的液位检测器(Xs、As、Bs、Cs)。
搜索关键词: 监视 装置 搭载 半导体 制造 以及 液体 材料 方法
【主权项】:
1.一种半导体制造装置,其特征在于,包括:包含收容液体材料的容器,从该容器供给所述液体材料的液体材料供给部;使由所述液体材料供给部供给的所述液体材料气化而生成气体的液体气化部;使用由所述液体气化部供给的所述气体进行处理的处理部;对所述处理部内的气体进行排气的排气部;和配置在所述容器的底部,向所述液体材料中导入声波,根据被液面反射的反射波检测所述液体材料的液位的液位检测单元。
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