[发明专利]吲哚,吲唑或二氢吲哚衍生物无效

专利信息
申请号: 200580026501.6 申请日: 2005-07-27
公开(公告)号: CN1993323A 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: A·孔特-迈韦格;H·屈内;T·吕贝斯;C·莫热艾斯;W·米勒;P·普夫利格 申请(专利权)人: 霍夫曼-拉罗奇有限公司
主分类号: C07D209/30 分类号: C07D209/30;A61K31/404;A61P3/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 柳春琦
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及通式(I)的化合物及其药用盐,其中-X-Y-、R1至R11和n如说明书和权利要求书中所定义。该化合物可以用于治疗和/或预防由CETP抑制剂介导的疾病。
搜索关键词: 吲哚 衍生物
【主权项】:
1.通式I的化合物:其中-X-Y-是-CRa=CRc-或-CRa=N-或-CRaRb-CRcRd-,其中Ra,Rb,Rc和Rd相互独立地选自:氢和低级烷基;R1,R2,R4和R5相互独立地选自:氢、低级烷基、低级烷氧基、卤素和低级卤代烷基;R3选自:低级烷基,未取代的或被低级烷基、氰基或低级烷氧基取代的环烷基,低级卤代烷基,低级烷氧基-烷基,低级烷氧基-卤代烷基,卤代烷氧基和五氟硫烷基;或R2和R3与它们连接的碳原子一起形成5-或6-元碳环或5-或6-元含有选自N、O或S中的一个或两个杂原子的杂环,所述的碳环或杂环是未取代的或被一个、两个、三个或四个基团取代的,所述的基团独立地选自:低级烷基、环烷基、低级烷氧基、卤素和低级卤代烷基;R6选自:氢和低级烷基;R7选自:氢,低级烷基,羟基和卤素;R8选自:低级烷基,低级链烯基,低级卤代烷基,杂环基,未取代的或被独立地选自低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基和卤素中的一个或两个基团所取代的杂芳基,未取代的或被独立地选自低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基和卤素中的一个或两个基团所取代的苯基,-OR12,其中R12是低级烷基或未取代的或被独立地选自低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基和卤素中的一个或两个基团所取代的苯基,-NR13R14,其中R13和R14彼此独立地选自:氢,低级烷基和未取代的或被独立地选自低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基和卤素中的一个或两个基团所取代的苯基,和-C(O)-OR15,其中R15是氢或低级烷基;R9,R10和R11相互独立地选自:氢、低级烷基、环烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基和卤素;n是1或2;及其所有药用盐。
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