[发明专利]全息记录介质、记录/再现设备和方法无效

专利信息
申请号: 200580026595.7 申请日: 2005-08-01
公开(公告)号: CN1993743A 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 青木育夫;高桥义孝 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B7/0065 分类号: G11B7/0065
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;安宇宏
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供一种以高密度记录数据的全息记录介质,防止了在将数据记录到该全息记录介质时参考光束输入到记录层的不应该记录数据的区域上,并且减小了从该全息记录介质再现数据时的噪声量。该全息记录介质包括用于限制全息记录层的入射区域的光速度限制件,因此限制了参考光束入射到全息记录层上,防止记录数据时参考光束入射到记录层的不应该记录数据的区域上,并且减小再现数据时的噪声量。
搜索关键词: 全息 记录 介质 再现 设备 方法
【主权项】:
1、一种全息记录介质,包括:光波导层,包括:多个覆层,具有低折射率;多个芯层,与所述覆层交替布置;多个衍射光栅,布置在覆层和芯层之间的界面处,或者布置在所述多个芯层中;全息记录层,通过垂直地将物光束照射并聚焦到该全息记录层上,并通过将参考光束输入到所述多个芯层中的一个中并用所述多个衍射光栅中的一个对参考光束进行衍射来将参考光束照射到该全息记录层上,来将数据作为全息图记录在该全息记录层上,并且通过经物镜将参考光束照射到该全息记录层来从该全息记录层再现数据;光速度限制件,置于全息记录层和光波导层之间,其中,所述全息记录层、光波导层和光速度限制件形成为一体。
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