[发明专利]去除污染物的系统和方法有效
| 申请号： | 200580026690.7 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN101072620A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 约翰·E.·塞尔吉;约翰·戈德罗;威廉·古德温;奥列格·P.·基什科维奇;德文·A.·金基德 | 申请（专利权）人： | 安格斯公司 |
| 主分类号： | B01D53/04 | 分类号： | B01D53/04;B01D46/12;F24F3/16 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蔡胜利 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种系统和方法，采用了用于从半导体加工装置中的气体去除污染物的设备，其可包括过滤器单元，在其中设置有至少两个平行的过滤器台。所述过滤器台被构造成去除出现在流经其的气体中的至少一部分污染物。所述设备还可包括用于在所述过滤器台中分配气流的流量控制器。在一个实施例中，所述控制器可包括扩散板。本发明还提供了用于本发明的系统或方法中的气流控制的采样管口。在另一个实施例中，用于从净化室中的气体中去除污染物的设备包括过滤器单元，其具有至少两个平行的过滤器台，它们被用于在气体经过所述设备时去除所述气体中的一部分污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 污染物 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于从半导体加工装置中的气体中去除污染物的设备，所述设备包括：过滤器单元，在其中设置有多个平行的过滤器台，以便从经过所述过滤器单元的气流中去除至少一部分所述污染物；以及流量控制器，其用于将所述气流分配经过所述平行的过滤器台。
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