[发明专利]磁记录介质的硅基底及其制造方法以及磁记录介质无效
申请号: | 200580026818.X | 申请日: | 2005-08-04 |
公开(公告)号: | CN1993736A | 公开(公告)日: | 2007-07-04 |
发明(设计)人: | 会田克昭 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;G11B5/84;G11B5/82 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种用于磁记录介质的硅基底,即使其为易碎材料制成的硅基底,也不易于在基底边缘面上产生碎片或者在基底上产生裂缝,并且防止从基底边缘面上产生的碎屑,以及防止由于摩擦加工盒而产生的碎屑。因此,在用于磁记录介质的硅基底中,在基底的主表面与边缘面之间提供了倒角部分,该边缘面与基底的倒角部分具有镜面光洁度,并且半径大于或等于0.01mm且小于0.3mm的曲表面介于基底主表面与倒角部分之间。在形成该曲表面过程中,制备具有叠置的多个硅基底与间隔物的硅基底叠层,并且刷子抛光该基底中心孔的内圆周和该基底的外圆周。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 基底 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
1.一种用于磁记录介质的硅基底,包括位于该基底的主表面与边缘面之间的倒角部分,其中所述边缘面与所述基底的倒角部分具有镜面光洁度,并且半径大于或等于0.01mm并小于0.3mm的曲表面介于所述基底的所述主表面与所述倒角部分之间。
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