[发明专利]用于改进离子注入均匀性的离子束扫描系统和方法有效
| 申请号： | 200580027218.5 | 申请日： | 2005-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101002294A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | B·范德贝里;A·雷;K·温策尔 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯技术公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;王忠忠 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了离子注入系统及其扫描系统，其中提供了焦点调节装置以动态调节离子束的焦点性质，从而补偿扫描仪的至少一个时变焦点性质。用于向工件提供扫描离子束的方法，包括动态调节离子束的焦点性质，对离子束进行扫描以产生扫描离子束，以及将所述扫描离子束引导至工件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改进 离子 注入 均匀 离子束 扫描 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入系统，包括：离子源，所述离子源可以操作以产生提取离子束；质量分析仪，用于从所述离子源接收提取离子束，并提供包括期望质量范围的离子的质量分析离子束；焦点调节装置，用于从所述质量分析仪沿着射束路径接收质量分析离子束，并沿着射束路径提供焦点已调节离子束；和扫描仪，用于从所述焦点调节装置接收焦点已调节离子束，并将扫描离子束引导至工件；其中所述焦点调节装置动态调节焦点已调节离子束的焦点性质，以补偿所述扫描仪的至少一个时变焦点性质。
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