[发明专利]用于生产颗粒材料以及用于测量和减少颗粒材料中的粉尘的系统和方法无效
| 申请号： | 200580027650.4 | 申请日： | 2005-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN101006008A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | J·D·霍尔德;H·斯里达拉默西;J·D·希尔克 | 申请（专利权）人： | MEMC电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/027 | 分类号： | C01B33/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马江立;秘凤华 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及生产颗粒多晶硅的方法以及颗粒多晶硅的供给。本发明还涉及用于测量和用于减少颗粒多晶硅中的粉尘的装置和方法。在一个方面中，一种系统包括处理器皿，该处理器皿具有用于从多晶硅中抽走粉尘的真空端口。本发明的另一种系统包括用于接纳多晶硅料流的阻隔管。一种测量系统包括用于将粉尘与多晶硅料流分开并测量粉尘的歧管和过滤器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 颗粒 材料 以及 测量 减少 中的 粉尘 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种连续生产颗粒多晶硅的方法，包括：在流化床过程中通过化学汽相淀积形成颗粒多晶硅；按尺寸对该颗粒多晶硅分类；从该颗粒多晶硅中除去粉尘，以便该颗粒多晶硅中的粉尘的质量小于3毫克/100kg多晶硅；以及在已经除去粉尘之后包装该颗粒多晶硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于MEMC电子材料有限公司，未经MEMC电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580027650.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
