[发明专利]二氧化硅的化学辅助研磨

摘要

本发明涉及多孔的表面改性二氧化硅颗粒的分散体，包括液体和多孔颗粒；其中由关系式(I)确定的分散体中颗粒的最大占据体积分数(Φ_max)为至少约0.55，其中Φ为液体中固体的占据体积分数，Φ_max为当粘度接近无穷大时占据体积分数的渐近极限(最大值)，b为固有粘度，η₀为液体的粘度，η为分散体的粘度。

主权项

1.一种多孔的表面改性阴离子二氧化硅颗粒的分散体，包括：(a)液体，和(b)表面改性阴离子二氧化硅颗粒，其中由以下关系式确定的所述液体中所述颗粒的最大占据体积分数(Φmax)为至少约0.55：$\eta /{\eta }_0=[1-(\Phi /{\Phi }_{\max }){]}^{-\left[b\right]{\Phi }_{\max }}$ 其中Φ为液体中固体的占据体积分数，Φmax为当粘度接近无穷大时占据体积分数的渐近极限，b为固有粘度，η0为液体的粘度，η为分散体的粘度。