[发明专利]应变绝缘体上半导体结构以及应变绝缘体上半导体结构的制造方法有效

专利信息
申请号: 200580028046.3 申请日: 2005-08-03
公开(公告)号: CN101044620A 公开(公告)日: 2007-09-26
发明(设计)人: K·P·加德卡尔;M·J·德杰纳卡;L·R·平克尼;B·G·艾特肯 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 侯颖媖
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及具有应变半导体层的绝缘体上半导体结构。根据本发明的一个实施例,一种绝缘体上半导体结构具有包括半导体材料、附连到包括玻璃或玻璃陶瓷的第二层的第一层,且将半导体和玻璃或玻璃陶瓷的CTE选择成使第一层受到拉伸应变的作用。本发明还涉及该应变绝缘体上半导体层的制造方法。
搜索关键词: 应变 绝缘体 上半 导体 结构 以及 制造 方法
【主权项】:
1.一种绝缘体上半导体结构,包括直接地或通过一个或多个中间层互相附连的第一层和第二层,其中所述第一层包括基本上是单晶的半导体材料;所述第二层包括玻璃或玻璃陶瓷;以及所述玻璃或玻璃陶瓷的CTE(25℃-300℃)正向小于所述半导体材料的CTE(25℃)。
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