[发明专利]新应用

摘要

本发明提供式(I)化合物或其金属衍生物在制备用于杀灭或减缓微生物生长的药物中的应用，杀灭或减缓微生物生长的方法不包括让该化合物暴露于光动力学治疗光源中或声动力学治疗超声波源中，其中式(I)的X₁、X₂、X₃、X₄、Y₁、Y₂、Y₃、Y₄和Z具有说明书中所给含义。优选该等微生物选自细菌、支原体、酵母、真菌和病毒。

主权项

1.下面式I化合物在制备用下述方法杀灭或减缓微生物生长的药物中的应用，所述方法不包括让所述化合物暴露于光动力学治疗光源中或声动力学治疗超声源中，其中：X₁、X₂、X₃和X₄独自代表氢原子、亲脂部分、苯基、低级烷基、烷芳基或芳烷基或下式阳离子基团；-L-R₁-N⁺(R₂)(R₃)R₄其中：L为连接部分或不存在；R₁代表低级亚烷基、低级亚烯基或低级亚炔基，其任选由选自低级烷基、低级亚烷基(任选由氧中断)、氟、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁和N⁺R₁₂R₁₃R₁₄中的一个或多个取代基所取代；和R₂、R₃和R₄独自代表H、芳基、低级烷基、低级烯基或低级炔基，其中后面三个任选由选自低级烷基、低级亚烷基(任选由氧中断)、芳基、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁和N⁺R₁₂R₁₃R₁₄中的一个或多个取代基所取代。Z为-CH或N；Y₁、Y₂、Y₃和Y₄不存在或独自代表芳基、低级烷基、低级烯基或低级炔基，其中后面三个任选由选自低级烷基、低级亚烷基(任选由氧中断)、芳基、OR₅、C(O)R₆、C(O)OR₇、C(O)NR₈R₉、NR₁₀R₁₁和N⁺R₁₂R₁₃R₁₄的一个或多个取代基所取代，或与其所连接的吡咯环结合形成环状基团；和R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃和R₁₄独自代表H或低级烷基；前提条件为X₁、X₂、X₃和X₄中至少一个为如上所定义的阳离子基团，并且X₁、X₂、X₃和X₄中至少一个为氢原子。