[发明专利]含有聚有机硅氧烷的化妆组合物及其用途无效

专利信息
申请号: 200580028628.1 申请日: 2005-06-15
公开(公告)号: CN101031279A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: M·马努斯扎克;G·洛伦茨 申请(专利权)人: 罗地亚化学公司
主分类号: A61K8/89 分类号: A61K8/89;A61Q5/00;A61Q19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘维升;林森
地址: 法国布洛*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明的目的是化妆组合物,它含有在化妆上可接受的载体和聚有机硅氧烷。该聚有机硅氧烷含有包括立体受阻胺的基团。
搜索关键词: 含有 有机硅 化妆 组合 及其 用途
【主权项】:
1.含有在化妆上可接受的载体和聚有机硅氧烷的化妆组合物,其特征在于该聚有机硅氧烷具有下式(I): [RaYcSiO(4-a-b-c)/2]N(I)式中:-RaYcSiO(4-a-c)/2,相同或不同,代表在该聚有机硅氧烷中含有的直链或支链结构单元,-N代表该聚有机硅氧烷中的硅原子数,大于或等于3,-a和c,相同或不同,是等于0、1、2或3的数,-a+c,相同或不同,等于0、1、2或3,-R,相同或不同,代表C1-C18烷基、C6-C12芳基、C6-C12芳烷基、C6-C12烷芳基、式-[CH2]3-NH[CH2]2-NH2基团、式-[CH2]3-NH2基团、羟基、C1-C18烷氧基、C1-C18羟基烷基或C1-C18羟基烷基醚烷基,所述的基团任选地被取代,-Y,相同或不同,代表式-R4-U-Hals,硅原子所带的基团,式中:-R4是二价键的含烃基团,优选地烷基基团,-U是共价键或含有杂原子的二价旋转基团,-Hals是含有立体位阻胺的官能团,以及-聚有机硅氧烷的至少一个硅原子带Y基团。
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