[发明专利]光学扫描装置无效
申请号: | 200580028677.5 | 申请日: | 2005-07-25 |
公开(公告)号: | CN101010740A | 公开(公告)日: | 2007-08-01 |
发明(设计)人: | C·A·弗舒伦;F·兹杰普 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/135 | 分类号: | G11B7/135;G11B7/09;G11B7/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;梁永 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种用于扫描记录载体(22)的光学扫描装置,记录载体具有外表面(24),其中光学扫描装置包括:辐射源系统(2),它被安排来生成辐射(3);物镜系统(20),具有出口面(24),物镜系统被安排在辐射源系统与记录载体之间;辐射检测器装置,用于生成表示在与记录载体相互作用后的辐射中检测到的信息的检测器信号;以及位置控制系统(42),用于控制在物镜系统的出口面与记录载体的外表面之间的间隙的间隙尺寸,位置控制系统提供在所述间隙上超零的辐射耦合。光学扫描装置被安排来处理检测器信号,以生成适用于在记录载体扫描期间控制该装置的特性的误差信号,误差信号包括第一误差信号(E1),以供位置控制系统用于控制间隙尺寸。光学扫描装置的特征在于,光学扫描装置被安排成生成与第一误差信号不同的第二误差信号(E2),以供位置控制系统用于控制间隙尺寸。 | ||
搜索关键词: | 光学 扫描 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于扫描记录载体(22)的光学扫描装置,所述记录载体具有外表面(24),其中所述光学扫描装置包括:a)辐射源系统(2),它被安排来产生辐射(3);b)物镜系统(20),它具有出口面(45),所述物镜系统被安排在所述辐射源系统与所述记录载体之间;c)辐射检测器装置,用于生成代表在与记录载体相互作用后的辐射中检测到的信息的检测器信号;以及d)位置控制系统(42),用于控制在物镜系统的出口面与记录载体的外表面之间的间隙的间隙尺寸,位置控制系统在所述间隙中提供趋近于零的辐射耦合,其中光学扫描装置被安排来处理所述检测器信号以便生成误差信号,该误差信号适用于在记录载体扫描期间控制该装置的特性,所述误差信号包括第一误差信号(E1),以供位置控制系统用于控制所述间隙尺寸,其特征在于,光学扫描装置被安排成生成与所述第一误差信号不同的第二误差信号(E2),以供位置控制系统用于控制所述间隙尺寸。
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