[发明专利]磁盘基材和磁盘的制造方法有效
| 申请号： | 200580028742.4 | 申请日： | 2005-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101010735A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | 町田裕之;会田克昭 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C03C23/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;张耀宏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明可以提供能够减少玻璃基材表面缺陷数的磁盘基材的制造方法。当使用所得磁盘基材制造磁盘时，产率以及可靠性可以得到改善。在磁盘基材表面抛光后对其进行洗涤时，在经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时，将玻璃基材浸到洗涤溶液中。玻璃基材表面的润湿状态包括浸入可以包含表面活性剂的水中的状态和其中液膜形成在几乎整个表面上的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 基材 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘基材的制造方法，在玻璃基材表面抛光后对其进行洗涤，其特征在于在所述经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时，将所述玻璃基材浸到洗涤溶液中。
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