[发明专利]抛光浆料，用于信息记录介质的玻璃基材的制造方法和信息记录介质的制造方法有效
| 申请号： | 200580028933.0 | 申请日： | 2005-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101010401A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00;C03C19/00;G11B5/73;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;张耀宏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 浆料 用于 信息 记录 介质 玻璃 基材 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含氧化硅磨料和氧化铈磨料的抛光浆料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。
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