[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法无效
| 申请号： | 200580029021.5 | 申请日： | 2005-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101010168A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | 町田裕之;会田克昭;羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;G11B5/73;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为了减小磁盘上的磁头漂浮高度，本发明提供一种磁盘基底的制造方法，能够有效地抛光玻璃基底，直到该玻璃基底的平坦度(TIR值)为5微米或更小。本发明涉及一种通过使用研磨盘片研磨的方法来抛光玻璃基底的磁盘基底制造方法，其特征在于，盘片精度被设定到180微米或更小，并且抛光一直进行到所述玻璃基底的平坦度(TIR值)变为5微米或更小为止。通过在这种磁盘基底上形成磁记录层来获得磁盘。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 基底 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过使用研磨盘片研磨来抛光玻璃基底的磁盘基底制造方法，其特征在于，盘片精度被设定到180微米或更小，并且抛光一直进行到所述玻璃基底的平坦度(TIR值)变为5微米或更小为止。
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