[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法无效
申请号: | 200580029275.7 | 申请日: | 2005-08-26 |
公开(公告)号: | CN101010737A | 公开(公告)日: | 2007-08-01 |
发明(设计)人: | 町田裕之;会田克昭;羽根田和幸 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G11B5/73 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种磁盘基底的制造方法,它能够只用一个抛光步骤来控制表面粗糙度并能减少表面缺陷,以及提供一种磁盘的制造方法。当玻璃基底被抛光时,该玻璃基底用含磨料的研磨浆来抛光。接着,该玻璃基底用不含磨料的水性清洗液来作进一步的抛光,使得该玻璃基底的表面粗糙度Ra为4到8埃。 | ||
搜索关键词: | 磁盘 基底 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种通过抛光玻璃基底进行的磁盘基底的制造方法,其特征在于,所述玻璃基底用含有磨料的抛光研磨浆来抛光,并用不合磨料的水性清洗液作进一步的抛光,使得所述玻璃基底的表面粗糙度Ra为4到8埃。
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