[发明专利]用于沉积光催化氧化钛层的方法无效
| 申请号： | 200580029338.9 | 申请日： | 2005-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101018882A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | B·舍费尔;C·默特兹纳;O·兹威特兹基;V·基尔克霍夫;T·莫德斯 | 申请（专利权）人： | 弗劳恩霍弗实用研究促进协会 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周铁;林森 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及在真空室中借助高速电子束蒸发在至少一个物体上沉积光催化氧化钛层的方法，其中在真空室中产生含氧气氛，借助电子束蒸发主要含Ti成分的材料；所述沉积由等离子体辅助，其中等离子体借助在作为阴极接通电流的待蒸发材料表面上进行扩散电弧放电产生；所述涂覆速率至少为20nm/s，沉积期间的物体温度保持在100℃－500℃，并且氧化钛层作为晶体且主要作为锐钛矿相进行沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 光催化 氧化 方法 | ||
【主权项】：
1.在真空室(1)中借助高速电子束蒸发在至少一个物体(8)上沉积光催化氧化钛层的方法，其特征在于，-在真空室(1)中产生含氧气氛；-借助电子束(5)蒸发主要含Ti成分的材料(3)；-所述沉积由等离子体辅助，其中等离子体借助在作为阴极接通电流的待蒸发材料(3)表面上的扩散电弧放电产生；-涂覆速率至少为20nm/s；-沉积期间的物体温度保持在100℃-500℃，并且-氧化钛层以晶体形式且主要作为锐钛矿相进行沉积。
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