[发明专利]与存在于大气压力氮介电屏障放电之内的H2O水平相关的方法、系统和聚合物物质有效
| 申请号： | 200580029449.X | 申请日： | 2005-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101014648A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 马克·A·斯特罗贝尔;塞思·M·柯克;乔尔·A·热舍尔;马修·J·斯科鲁帕 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;B29C59/12 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郇春艳;郭国清 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 利用大气压力氮介电屏障放电，处理聚合物物质表面的方法和系统。可以在低于预定量的H2O水平保持大气压力氮介电放电，例如通过测量和控制在处理器内的H2O，以对聚合物物质产生表面处理，得到希望的特性。此外，根据预定量或根据其他参数例如所得聚合物表面的分析，可以测量和控制H2O水平。例如，聚合物表面可以具有优化的加入的氮与加入的氧的比值和/或基于清洗和未清洗的前进接触角的优化稳定性，例如通过基于处理的聚合物的这些分析而控制在处理器内的H2O水平而实现。 | ||
| 搜索关键词： | 在于 大气压力 氮介电 屏障 放电 之内 sub 水平 相关 方法 系统 聚合物 物质 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物物质，包括通过大气压力氮介电屏障放电处理的表面，所述表面具有：大于或等于约1.5的加入的氮与加入的氧的比值；和与清洗的前进水接触角差约5°或更小的未清洗的前进水接触角。
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