[发明专利]用于最优化等离子体处理系统中的大气等离子体的装置

摘要

本发明公开了一种用于在活性离子蚀刻处理过程中清洁衬底的装置。该装置被配置为使用RF发生装置来产生大气等离子体。该装置包括等离子体形成腔，该等离子体形成腔包括由电介质材料组成的一组内腔壁限定的空穴。该装置还包括大气等离子体，该大气等离子体由RF发生装置产生，该大气等离子体从空穴的第一端伸出，以清洁衬底。

主权项

1.用于在活性离子蚀刻处理过程中清洁衬底的装置，所述装置被配置为通过使用RF发生装置来产生大气等离子体，所述装置包括：等离子体形成腔，包括由电介质材料组成的一组内腔壁限定的空穴；大气等离子体，由所述RF发生装置生成，所述大气等离子体从所述空穴的第一端伸出，以清洁所述衬底。