[发明专利]表面结构化的基片及其制备有效

专利信息
申请号: 200580030416.7 申请日: 2005-09-12
公开(公告)号: CN101014421A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: 斯特凡·格雷特尔 申请(专利权)人: 马克思-普朗克科学促进协会
主分类号: B05D5/00 分类号: B05D5/00;B05D7/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于制备表面结构化的基片的方法,其包括下列步骤:(i)制备在至少一个表面上用无机纳米簇实施纳米结构化的第一基片,(ii)将用于第二基片的与该第一基片的材料不同的基片材料施加到在步骤(i)中得到的第一基片的纳米结构化的表面上,及(iii)将该第一基片与由步骤(ii)得到的包括该无机纳米簇的第二基片分离,从而得到用纳米簇实施纳米结构化的第二基片。此外本发明还涉及通过该方法得到的表面结构化的基片以及该表面结构化的基片用于施加支架材料或植入物材料的用途,用于粘连细胞、病毒和/或细菌和细胞的无血清的培养,例如用于皮肤代替物。此外本发明还包括该基片的所有的应用,其中通过结构化地结合生物活性分子而可以模仿、改性、检测或量化生物系统以及用于在光学元件或电子元件和化学和生物传感器系统中。
搜索关键词: 表面 结构 及其 制备
【主权项】:
1、用于制备表面结构化的基片的方法,其包括下列步骤:(i)制备在至少一个表面上用无机纳米簇实施纳米结构化的第一基片,(ii)将与该第一基片的材料不同的用于第二基片的基片材料施加到在步骤(i)中得到的第一基片的纳米结构化的表面上,及(iii)将该第一基片与由步骤(ii)得到的包括该无机纳米簇的第二基片分离,从而得到用纳米簇实施纳米结构化的第二基片。
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