[发明专利]采用可烧蚀的对辐射敏感的材料的结构化表面有效
| 申请号： | 200580030800.7 | 申请日： | 2005-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN101019474A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | M·Z·阿利;E·A·富伦卡姆;R·R·小奥尔曼;G·L·齐沃德洛 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | H05K3/00 | 分类号： | H05K3/00;B44C1/22;H05K1/00;B41M1/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘冬;段晓玲 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用本发明的方法形成了一种结构化表面。制备这种结构化表面的方法包括以下步骤：将可烧蚀的对辐射敏感的涂料涂布到基体主表面上，再将可烧蚀的对辐射敏感的涂层暴露于辐射，以便可烧蚀的对辐射敏感的涂层的暴露部分从基体上烧蚀，形成结构化表面。从而，结构化表面包含基体和由至少一个分隔堤构架成的结构图案。该方法还可以包括使可流动材料沉积到所述结构上和分隔堤上，以在结构中形成可流动材料的图案的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 可烧蚀 辐射 敏感 材料 结构 表面 | ||
【主权项】：
1.一种在基体上形成结构化表面的方法，所述方法包括以下步骤：(a)将可烧蚀的对辐射敏感的涂料涂布到所述基体的主表面上；和(b)将所述可烧蚀的对辐射敏感的涂料以一定图案暴露于辐射，从而使所述可烧蚀的对辐射敏感的涂层的暴露部分烧蚀，在所述基体上形成由至少一个分隔堤构架成的结构，其中所述至少一个分隔堤能使可流动材料容纳于所述结构中。
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