[发明专利]制造一种InP基垂直腔面发射激光器的方法及由此方法制造的装置无效
申请号: | 200580031050.5 | 申请日: | 2005-09-16 |
公开(公告)号: | CN101053129A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | C·G·卡诺;B·L·霍尔;西山信彦;C·-E·扎 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/08 | 分类号: | H01S3/08;H01S5/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 徐迅 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 组装具有高反射率DBR(3)、用于发射中心波长在大约1.30微米附近的光的磷化铟基VCSEL(1)的方法。所述方法包括选择工作波长,决定对应于所述波长的光子能,选择最高工作温度,并且组装由外延生长在基材上以获得等于或大于光子能总数与最高工作温度加110再除以1.96的和的能带隙的材料所形成的DBR(3)的至少一半的高指数层(3a)。使用具有这样的能带隙的高指数层(3a)在DBR(3)内交叠层的折射指数间创造了足够大的差异,同时至少在最高达所需的工作温度下保持低的光吸收以维持反射率,并避免用到需要结合或变形生长在基材(2)上的DBR(3)。 | ||
搜索关键词: | 制造 一种 inp 垂直 发射 激光器 方法 由此 装置 | ||
【主权项】:
1、一种具有由高和低指数层形成的高反射率的分布布拉格反射器的InP基垂直腔面发射激光器的制造方法,所述方法包括如下步骤:选择一种工作波长;决定对应于所选定的工作波长的光子能Elasing;选择最高工作温度Tmax,组装至少一半的所述高指数层从而获得等于或高于下列公式所确定的数值的能带隙G(表达为meV):
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