[发明专利]具有腔内反射特征的半导体激光器的设计方法、半导体激光器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200580031334.4 申请日: 2005-07-18
公开(公告)号: CN101023569A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: 斯蒂芬·奥布赖恩;约恩·帕特里克·奥赖利 申请(专利权)人: 爱尔兰国家大学科克学院
主分类号: H01S5/10 分类号: H01S5/10;H01S5/22
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 爱尔*** 国省代码: 爱尔兰;IE
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摘要: 法布里-帕罗(FP)激光器设备(1)具有n-型衬底(2),活性区(3),p-型包层(4),绝缘体(5)和接触体(6)。包层(4)包括具有若干狭缝(8)的脊(7)。狭缝(8)使光部分纵向反射。选择狭缝的精确位置,以便在输出光中精确、可预测地获得特定的选定模式(一个或多个)。设计狭缝图案的方法最好选择特定的法布里-帕罗模式作为峰值发射波长,还抑制任意数量的相邻法布里-帕罗模式。该方法选择优先于腔内其他法布里-帕罗模式的一组法布里-帕罗模式。由此,该方法解决了半导体激光器预先确定峰值激光发射波长的重要问题,还解决了峰值激光发射模式随温度改变的稳定性问题。该方法还能够将功能增强的多模设备制造为单独的设备以及更复杂的多部件或多元件设备的组成部分。
搜索关键词: 具有 反射 特征 半导体激光器 设计 方法 及其 制造
【主权项】:
1.一种用于设计边发射半导体激光器设备的方法,该激光器设备包括具有反射镜的法布里-帕罗激光腔,所述反射镜用于对激光发射进行正反馈;以及处于所述腔反射镜之间的包层中的至少一个特征,每个特征引起折射率的局部改变,其中,该方法包括如下步骤:即根据每个特征与所述腔反射镜之间的子腔中的反馈与所述腔的法布里-帕罗模式的阈值增益调制之间的关系,确定所述特征的位置。
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