[发明专利]含氮的稠合双环化合物无效

专利信息
申请号: 200580031675.1 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101023083A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: 高室岩;河南三郎;坪井康范;冰见山利之;长谷川柚子;持田英树;能城广司 申请(专利权)人: 田边制药株式会社
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;C07D487/04;A61K31/437;A61K31/519;A61P1/00;A61P1/10;A61P1/12;A61P3/14;A61P11/00;A61P25/16;A61P25/24;A61P25/28;A61P43/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘冬;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种由以下通式[I]表示的新的含氮的稠合双环化合物或该化合物的药学上可接受的盐。它们具有极佳的SK通道阻断活性,可用作药物。(在式中,R0表示氢、卤代等;R1表示式(a)或(b)表示的基团;A表示式(X)或(Y)表示的基团;D1、D2和D3各表示N或CH;R2表示卤代或任选卤代的低级烷基等;R3表示氢或低级烷基;Q表示低级亚烷基)。
搜索关键词: 稠合双 环化
【主权项】:
1.下式[I]的化合物或其药学上可接受的盐:其中R0为氢原子、卤原子、氰基、低级烷氧基、低级烷基、氨基(所述氨基可被低级烷基取代)或杂芳基,R1为下式的基团:R11和R12可相同或不同,为氢原子、低级烷基、羟基-低级烷基、环-低级烷基、低级烷酰基、低级烯酰基、低级烷氧基-低级烷基、环-低级烷基-羰基、氨基-低级烷基(所述氨基部分可被低级烷基取代)、低级烷氧基-羰基、含氮杂环基取代的低级烷基或被低级烷基任选取代的含氮杂环基,或两基团在它们末端处相互结合,与相邻的氮原子一起形成含氮杂环基(所述杂环基可被低级烷基取代),X为N或CH,m为整数0或1,A为下式的基团:X1和X2中之一为N或CH,而另一个为N,Alk为低级亚烷基,n为整数0或1,D1、D2和D3为N或CH,R2为被1或2个选自以下的基团任选取代的芳基(或杂芳基):卤原子、被卤原子任选取代的低级烷基、被卤原子任选取代的低级烷氧基、低级烷酰基和被1或2个低级烷基任选取代的氨基,R3为氢原子或低级烷基,且Q为低级亚烷基。
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