[发明专利]用于气体分离的装置和用于制备该装置的方法无效
申请号: | 200580032239.6 | 申请日: | 2005-08-13 |
公开(公告)号: | CN101031352A | 公开(公告)日: | 2007-09-05 |
发明(设计)人: | W·A·穆伦伯格;R·汉斯奇;H·P·布克雷梅;D·斯特维 | 申请(专利权)人: | 于利奇研究中心有限公司 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D53/22 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周铁;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及用于制备包括层体系的气体分离装置的方法,其中在贯通多孔载体层上在该载体层的至少一侧上施加平均孔直径为至少1nm的TiO2和/或ZrO2功能层。所述载体层优选为100μm至1mm厚,并具有平均孔直径为μm范围的通孔。直接施加或者在一个或多个中间层上施加的功能层具有平均孔直径小于1nm、特别小于0.8nm的通孔。该功能层可以有利地构造为梯度层。特别有利的是将该装置制造成对称结构,其中在载体层的两侧视需要分别在一层或多层中间层上设置功能层。 | ||
搜索关键词: | 用于 气体 分离 装置 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于气体分离的包括层体系的装置,该装置的特征在于:-贯通的开孔的、机械稳定载体层,该载体层具有μm范围的平均孔隙率,以及-设置在载体层至少一侧的含TiO2和/或ZrO2的贯通多孔功能层,该功能层具有小于1nm的平均孔直径。
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