[发明专利]旋光4,4-二取代唑烷衍生物及其制备方法有效
申请号: | 200580033430.2 | 申请日: | 2005-10-26 |
公开(公告)号: | CN101031552A | 公开(公告)日: | 2007-09-05 |
发明(设计)人: | 小野田俊彦;中村嘉孝;山冈诚;武田齐大;佐藤仙忠;神将吉 | 申请(专利权)人: | 三共株式会社 |
主分类号: | C07D263/06 | 分类号: | C07D263/06;C07D413/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供旋光4,4-二取代唑烷衍生物及其制备方法。具有通式(I)的旋光4,4-二取代唑烷衍生物[其中,R1表示甲酰基、羟甲基、式COOR的基团、卤代甲基、甲基等,R表示C1-C6烷基等,R2表示C1-C6烷基、C3-C10环烷基等,R3表示C2-C6烷酰基、C1-C6烷氧基羰基等,并且R4表示C1-C6烷基或C2-C6烯基]。 | ||
搜索关键词: | 取代 衍生物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.具有通式(I)的旋光4,4-二取代唑烷衍生物[其中,R1表示被一个选自取代基组A的取代基取代的C1-C3烷基、被一个选自取代基组A的取代基取代的C2-C3烯基、卤代甲基、羟甲基、甲酰基、式COOR的基团或甲基,R表示C1-C6烷基、C2-C6烯基、苯基或苄基,R2表示C1-C6烷基、C3-C10环烷基或苯基,R3表示C2-C6烷酰基、C1-C6烷氧基羰基、苯甲酰基、苯氧基羰基或苄氧基羰基,R4表示C1-C6烷基或C2-C6烯基,取代基组A表示可以任选被1至3个选自卤素原子、氰基、苯基、C1-C8 烷基、C1-C8烷氧基和C2-C8烷酰基的取代基取代的苯基,噻吩基,N-甲基吡咯基或呋喃基]。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三共株式会社,未经三共株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580033430.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种变中心距的卷板机
- 下一篇:余热回收式电子热水器系统