[发明专利]旋光4,4-二取代唑烷衍生物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200580033430.2 申请日: 2005-10-26
公开(公告)号: CN101031552A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: 小野田俊彦;中村嘉孝;山冈诚;武田齐大;佐藤仙忠;神将吉 申请(专利权)人: 三共株式会社
主分类号: C07D263/06 分类号: C07D263/06;C07D413/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 熊玉兰;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供旋光4,4-二取代唑烷衍生物及其制备方法。具有通式(I)的旋光4,4-二取代唑烷衍生物[其中,R1表示甲酰基、羟甲基、式COOR的基团、卤代甲基、甲基等,R表示C1-C6烷基等,R2表示C1-C6烷基、C3-C10环烷基等,R3表示C2-C6烷酰基、C1-C6烷氧基羰基等,并且R4表示C1-C6烷基或C2-C6烯基]。
搜索关键词: 取代 衍生物 及其 制备 方法
【主权项】:
1.具有通式(I)的旋光4,4-二取代唑烷衍生物[其中,R1表示被一个选自取代基组A的取代基取代的C1-C3烷基、被一个选自取代基组A的取代基取代的C2-C3烯基、卤代甲基、羟甲基、甲酰基、式COOR的基团或甲基,R表示C1-C6烷基、C2-C6烯基、苯基或苄基,R2表示C1-C6烷基、C3-C10环烷基或苯基,R3表示C2-C6烷酰基、C1-C6烷氧基羰基、苯甲酰基、苯氧基羰基或苄氧基羰基,R4表示C1-C6烷基或C2-C6烯基,取代基组A表示可以任选被1至3个选自卤素原子、氰基、苯基、C1-C8 烷基、C1-C8烷氧基和C2-C8烷酰基的取代基取代的苯基,噻吩基,N-甲基吡咯基或呋喃基]。
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