[发明专利]高频处置装置有效

专利信息
申请号: 200580033988.0 申请日: 2005-10-05
公开(公告)号: CN101035478A 公开(公告)日: 2007-09-12
发明(设计)人: 林田刚史;谷口一德;永山茂生;肘井一也 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: A61B18/12 分类号: A61B18/12;A61B18/14
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种高频处置装置。该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该电极的基端侧被绝缘体覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器可在预定方向上自由移动;以及输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近,在所述施加电极上,从所述绝缘体的前端露出的根部部分中的预定范围被第1绝缘材料覆盖,从而能够利用更小的功率在灌注液中进行组织的切除、气化、电凝等,而且可以缩短手术时间。
搜索关键词: 高频 处置 装置
【主权项】:
1.一种高频处置装置,其具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器可在预定的方向上自由移动;以及输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近,所述高频处置装置的特征在于,在所述施加电极上,从所述第1绝缘材料的前端露出的根部部分中的预定范围被第2绝缘材料覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥林巴斯株式会社,未经奥林巴斯株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580033988.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top