[发明专利]设计带隙的MOS栅功率晶体管有效
申请号: | 200580034226.2 | 申请日: | 2005-10-07 |
公开(公告)号: | CN101036235A | 公开(公告)日: | 2007-09-12 |
发明(设计)人: | G·多利;Q·王;I·何 | 申请(专利权)人: | 费查尔德半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/00 | 分类号: | H01L31/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提高对瞬态电压的抵抗性并减小寄生阻抗的器件、方法和过程。提高了对非箝位感应开关事件的抵抗性。例如,提供了具有SiGe源的沟槽栅功率MOSFET器件,其中SiGe源通过减小基体或阱区中的空穴电流来减小寄生npn晶体管增益,从而减小闭锁条件的可能性。也可去除连接到该器件上的基体以减小晶体管的单元大小。还提供了具有SiGe基体或阱区的沟槽栅功率MOSFET器件。在体二极管导通时SiGe基体可减小空穴电流,从而减小其反向恢复功率损耗。还改进了器件的特性。例如,通过使用多晶SiGe栅减小了寄生栅阻抗,并且通过使用器件栅附近的SiGe层减小了沟道电阻。 | ||
搜索关键词: | 设计 mos 功率 晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种MOS栅晶体管,包括:包括源区的基体区;与所述基体区形成pn结的漏区;以及在所述源区和所述漏区之间延伸的栅,其中所述源具有比所述基体区低的能隙。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的