[发明专利]利用化学气相沉积法以粘性前驱物沉积功能性梯度介电膜层的方法及系统无效

专利信息
申请号: 200580034510.X 申请日: 2005-08-29
公开(公告)号: CN101065835A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 迪内士·帕德希;朴贤秀;甘恩士·巴拉萨布拉曼尼恩;胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯;夏立群;德里克·R·威蒂;希姆·M’萨德 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: H01L21/316 分类号: H01L21/316;H01L21/768;C23C16/40
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;梁挥
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种在下垫层上形成梯度介电层的方法,该方法包含通过一包含一阻隔板及一面板的喷头导入一含硅碳气体、含氧气体及载气的气体混合,以形成此梯度介电层的富含氧化物部分,其中含硅碳气体具有初始流速;以一高于初始流速的第一中间流速导入含硅碳气体大约0.5秒或更长时间;以及以一高于第一中间流速的最快流速导入含硅碳气体,以形成梯度介电层中富含碳部分。
搜索关键词: 利用 化学 沉积 粘性 前驱 功能 梯度 介电膜层 方法 系统
【主权项】:
1.一种在一下垫层上形成一梯度介电层的方法,该方法包含:经由一具有一阻隔板及一面板的喷头导入一含硅碳气体、一含氧气体与一载气的一混合气体,以形成该梯度介电层的一富含氧化物部分,其中该含硅碳气体具有一初始流速;以一第一中间流速导入含硅碳气体大约0.5秒或更长时间,其中该第一中间流速较该初始流速高;以及以一较该第一中间流速为高的最快流速导入该含硅碳气体,以形成该梯度介电层的一富含碳部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司,未经应用材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580034510.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top