[发明专利]等离子体涂布方法无效
| 申请号： | 200580034771.1 | 申请日： | 2005-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN101039993A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | C·M·魏克特;T·史密斯 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟;王初 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了等离子体涂布聚烯烃或聚乳酸容器内表面以提供对气体渗透的有效屏蔽的方法。本发明提供了在容器内表面上迅速均匀地沉积非常薄的、粘附的且几乎无缺陷的聚有机硅氧烷和氧化硅(或无定形碳)层，以实现使屏蔽性能提高大于一个量级。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 方法 | ||
【主权项】：
1.改进的制备容器的保护性屏蔽层的方法，包括用等离子体聚合涂层等离子体涂布容器内部的步骤，其中改进包括用等离子体对聚烯烃或聚乳酸容器的内表面预处理少于一分钟的步骤。
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