[发明专利]用于离子注入剂量和均匀性控制的离子束测量系统及方法无效
| 申请号： | 200580034797.6 | 申请日： | 2005-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN101040365A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | K·佩特里;J·费拉拉;K·贝克 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯技术公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张亚宁;王忠忠 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于在处理室内工件位置处沿着曲线轨迹的多个点上测量扫描的离子束的剂量测定系统和方法。所说明的剂量测定系统包含传感器和安装设备，所述安装设备支持传感器并且选择性地将传感器定位于沿着曲线轨迹的多个点上，其中安装设备可选择性地定位传感器以此指向扫描的离子束的顶点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 剂量 均匀 控制 离子束 测量 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入系统，包含：离子源，可操作用来生成离子束；射束扫描仪，被定位于所述离子源的下游，所述射束扫描仪接收所述离子束并将扫描的离子束引向处理室内的工件；以及剂量测定系统，可操作用来在所述工件位置处沿着曲线轨迹的多个点上测量所述被扫描的射束。
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