[发明专利]用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物有效
| 申请号： | 200580034854.0 | 申请日： | 2005-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN101040021A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 弗朗西斯科·德雷吉西索罗;本杰明·拜尔 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光基板的方法，包括使包含(a)选自研磨剂、抛光垫及其组合的抛光成分、(b)氧化剂、(c)含环氧乙烷的聚合物及(d)液体载体的化学机械抛光系统与在基板表面上包括贵金属的基板，并使用该化学机械抛光系统研磨至少一部分该贵金属以抛光该基板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 贵金属 具有 聚合物 添加剂 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基板的方法，其包括：(i)使在基板表面上包括贵金属的基板与包括以下的化学机械抛光系统接触：(a)选自研磨剂、抛光垫、及其组合的抛光成分，(b)选自溴酸盐、亚溴酸盐、次溴酸盐、氯酸盐、亚氯酸盐、次氯酸盐、高氯酸盐、次碘酸盐、高碘酸盐、单过氧硫酸盐、有机-卤素-氧基化合物、稀土盐、及其组合的氧化剂，(c)含环氧乙烷的聚合物，及(d)液体载体，及(ii)使用该化学机械抛光系统研磨至少一部分该贵金属以抛光该基板。
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