[发明专利]太阳能电池背接触上的导电层的接触隔离方法和相应的太阳能电池有效

专利信息
申请号: 200580035004.2 申请日: 2005-10-13
公开(公告)号: CN101048875A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: 安德烈亚斯·泰普;彼得·恩格尔哈特;约格·米勒 申请(专利权)人: 太阳能研究所股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/04;H01L31/06;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 顾晋伟;刘继富
地址: 德国埃*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 公开了一种生产包含半导体衬底(2)的太阳能电池(1)的方法,其电接触实现在半导体衬底的背面上。半导体衬底的背面包含局部掺杂区域(3)。相邻区域(4)具有与所述区域(3)不同的掺杂。根据本发明,可以避免太阳能电池的导电材料(5)的短路,由此区域(3,4)至少在其边界(6)处覆盖有电绝缘薄层(7)。然后在两区域(3,4)的整个表面上覆盖导电材料(5)。导电材料层(5)的隔离通过将蚀刻阻挡层(8)覆盖在其整个表面上来实现,随后不使用掩蔽而是例如通过激光烧蚀在绝缘层(7)上方选择性局部移除所述蚀刻阻挡层(8)。通过蚀刻溶液的后续腐蚀,从蚀刻阻挡层(8)的开口区域(9)中局部移除导电层(5)。
搜索关键词: 太阳能电池 接触 导电 隔离 方法 相应
【主权项】:
1.一种制造太阳能电池(1)的方法,包括下列步骤:提供具有衬底正面和衬底背面的半导体衬底(2);在所述衬底背面上分别形成发射极区域(3)和基极区域(4);在衬底背面上的至少所述发射极区域(3)邻接所述基极区域(4)的区域边界(6)上方的结区中形成电绝缘层(7);至少在所述衬底背面的部分区域上沉积金属层(5);至少在所述金属层(5)的部分区域上沉积蚀刻阻挡层(8),其中所述蚀刻阻挡层(8)基本阻挡用于蚀刻所述金属层(5)的蚀刻剂;至少在所述结区的部分区域中局部移除所述蚀刻阻挡层(8);蚀刻所述金属层(5),其中在局部移除所述蚀刻阻挡层(8)的部分区域中基本移除所述金属层(5)。
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