[发明专利]气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200580035390.5 申请日: 2005-08-15
公开(公告)号: CN101039801A 公开(公告)日: 2007-09-19
发明(设计)人: 藤井均;秋田纪雄;柴田步;千叶大道;三上浩一;坂元寿 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C23C14/08;C23C16/42;B65D1/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;田欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种既具有优异的气体阻隔性又具有透明性、耐冲击性也优异的气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法。本发明的气体阻隔性叠层薄膜是在基材上设置无机氧化物的蒸镀膜,再在该蒸镀膜上设置气体阻隔性涂布膜而形成的气体阻隔性叠层薄膜,其特征在于,是在基材的、待形成蒸镀膜的表面侧实施预处理或者底涂处理而成,所述的气体阻隔性涂布膜是通过在所述的无机氧化物膜上涂布气体阻隔性涂布液后、进行加热而形成的。
搜索关键词: 气体 阻隔 性叠层 薄膜 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种气体阻隔性叠层薄膜,是在基材上设置无机氧化物的蒸镀膜、再在该蒸镀膜上设置气体阻隔性涂布膜而形成的气体阻隔性叠层薄膜,其特征在于,是在基材的待形成蒸镀膜的表面侧实施预处理或者底涂处理而成,所述的气体阻隔性涂布膜是通过在所述的无机氧化物膜上涂布气体阻隔性涂布液之后、进行加热而形成的。
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