[发明专利]带有顶部参考腔的压力传感器无效
| 申请号： | 200580035413.2 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN101052864A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | C·E·斯图尔特 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | G01L9/00 | 分类号： | G01L9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;王小衡 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种压力传感器，包括具有底面和顶面的硅膜片。底面用本领域技术人员所熟知的方法形成。第一层被形成并图案化在膜片的顶部表面，第一层的面积比膜片的面积大。第二层被形成并图案化在第一层上方。第二层的面积比第一层的面积大。孔形成在第二层中，用于通过本领域技术人员所熟知的方法除去第一层。第三层被形成并图案化在第二层上方。第三层密封第二层中的孔，从而在膜片的顶部表面形成具有参考压力的密封腔。在操作期间，介质被施加到膜片的底面，其中介质压力相对于密封在膜片顶部的参考压力被压力传感器感测。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 顶部 参考 压力传感器 | ||
【主权项】：
本发明实施例中独享的权利被要求为如下：
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